一、mocvd烤盘炉简介mocvd真空烤盘炉、真空烤盘炉为 led 制造行业的一种新型的真空设备，与 mocvd
设备配套使用，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行 干式清洗（清洗气体：n2，n2，hcl可选)。主要用于有效清除 mocvd 承受器（sic
涂层石 墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。
二、mocvd烤盘炉用途
北京晶伏华控电子设备有限公司生产的烤盘炉、真空烤盘炉、mocvd烤盘炉、cvd烤盘炉主要应用于led行业mocvd石墨盘的真空烘烤工艺。
三、mocvd烤盘炉技术指标
1、外型形式：单管卧式
2、加热器形式：固定式加热器（产品随炉升、降温）
3、最高工作温度：1350℃
4、持续工作温度：1300℃
5、真空室尺寸：φ400*500mm
6、加热元件：钼丝
7、最大加热功率50kw，保温功率30kw
8、真空室材质：sus310s不锈钢
9、反射板：产品与炉口之间有数层反射板，以减少高温对炉口的热辐射。反射板采用耐热sus316l不锈钢制作，结构与炉门一体。10、气路：n2、h2 ，管道为316l耐腐蚀不锈钢。
11、流量计：日本horiba质量流量计
12、真空系统：旋片真空泵
13、极限真空度：0.01mba
14、压力调节：设备可增加蝶阀控制系统，以使bake过程中系统内压力恒定在一个设定真空度，蝶阀控制器采用mks品牌。
15、真空计：采用德国inficon品牌
16、温控系统：日本rkc温控仪
17、控制方式：调功调压
18、冷却方式：水冷
19、操作方式：手、自动两种操作方式
20、报警及保护：系统设有超温报警及保护、断偶报警及保护、真空系统阀门互锁保护、缺水报警及保护、气体泄漏报警及保护
北京晶伏华控电子设备有限公司可根据客户需求专业定制各种真空炉、烤盘炉、真空烤盘炉、cvd烤盘炉、mocvd烤盘炉、扩散炉、退火炉、合金炉、交换炉、焊接炉、igbt焊接炉、氧化炉、气氛炉、升华炉、氢气炉、气氛炉、cvd炉及工业电炉专用炉体等各种工业、实验室用热处理设备。